ALD 包覆改性方案

PANDORA 多功能臺式原子層沉積系統(tǒng)【ALD 包覆改性方案】

很多人相信，潘多拉的魔盒還埋藏著尚未開發(fā)的寶物——希望！

正是基于對于新技術(shù)應(yīng)用的美好愿景，F(xiàn)orge Nano 開發(fā)了 PANDORA 臺式原子層沉積系統(tǒng)， 這一工具巧妙地將粉末原子層沉積技術(shù)和平面原子層沉積薄膜技術(shù)結(jié)合。使用者可輕易地在粉末與平面樣品之間切換，而不用擔心影響研究效率。

產(chǎn)品規(guī)格【ALD 包覆改性方案】

1. 前驅(qū)體通道：2-6

2. 連續(xù)流 / 靜態(tài)流兼容

3. 反應(yīng)腔：100ml 粉末腔 / 10×10cm 平面

4. 反應(yīng)腔結(jié)構(gòu)：旋轉(zhuǎn)式

5. 反應(yīng)腔溫度：最高 200℃

6. 配件：In-situ QCM，等離子發(fā)生器，臭氧發(fā)生器，在線式氣體分析系統(tǒng)，沖壓輔助裝置

7. 支持樣品：粉末，纖維，平面樣，器件，藥物

產(chǎn)品特點

PANDORA 是高度集成的臺式原子層沉積系統(tǒng)，可擺放在實驗室的任意角落，采用旋轉(zhuǎn)式反應(yīng)腔實現(xiàn)對粉末材料的分散，有更高的兼容性。對于平面樣品，則可快速插入平面反應(yīng)臺，實現(xiàn)樣品的切換。PANDORA 高度集成的特點提高了使用效率，使用者甚至在安裝的第一天便可以開始 ALD 實驗。

實時監(jiān)測

PANDORA 也配備了在線分析系統(tǒng)，可以對前驅(qū)體與副產(chǎn)物進行實時監(jiān)測，從而進行沉積工藝改良。

In-situ QCM

ALD 是微量的沉積方式，故常規(guī)手段無法測量薄膜的質(zhì)量，因此 PANDORA 采用石英微天平可以實時監(jiān)測材料的質(zhì)量變化，幫助研究者獲得更高質(zhì)量的薄膜。

反應(yīng)觀察窗

研究者可通過窗口實時觀察粉末在腔室中的運轉(zhuǎn)情況

符合 cGMP 要求

PANDORA 可以應(yīng)用于藥物的表面改性及包覆，從而提升藥物的物理及化學性能。

應(yīng)用

對于學術(shù)研究，液相法是進行粉末表面包覆改性的重要方法，但對于大多數(shù)研究者而言，尋找合適的工藝以及普適性較高的方案是費時耗力的工作，且液相法會造成大量的原料浪費，同時并不能實現(xiàn)*均勻的包覆。包覆層會出現(xiàn)較多的缺陷或顆粒團聚，影響材料最終的性能。而對于敏感性較高的材料，如鋰電電極粉末，液相法可能對材料性能產(chǎn)生不可逆的影響。

ALD 是自限制性的薄膜沉積技術(shù)，可以在粉末材料表面形成均勻的包覆，即便是孔隙率高的多孔結(jié)構(gòu)，ALD 也有較好的均一性。